SPIE（國際光學(xué)工程學(xué)會）宣布，其在半導(dǎo)體行業(yè)新興技術(shù)領(lǐng)域的重要會議——SPIE先進光刻技術(shù)會議將于2026年2月22日至26日在美國加利福尼亞州圣何塞舉行。此次會議將匯集全球頂尖的研究人員和行業(yè)專家，共同探討光學(xué)和極紫外（EUV）光刻、圖案化技術(shù)、計量學(xué)以及半導(dǎo)體制造中的過程集成等領(lǐng)域的最新進展。
在即將到來的會議上，參與者將有機會聽取來自世界各地的知名演講者分享他們的研究成果和突破性進展。其中，來自荷蘭ASML公司的Christophe Fouquet、美國加州大學(xué)洛杉磯分校的Subramanian Iyer、瑞士IBM研究前沿研究所的Heike Riel以及臺灣臺積電公司的Michael Wu等專家將作為特邀嘉賓進行演講。這些演講將涵蓋廣泛的主題，從先進的納米光刻技術(shù)到計算圖案設(shè)計，再到新穎的圖案化技術(shù)和材料工藝的進步。
除了精彩的演講和專題討論會之外，參會者還可以通過一系列的網(wǎng)絡(luò)研討會和課程進一步提升自己的技能和知識。此外，會議還設(shè)有展覽區(qū)，展示包括光刻膠、EUV材料在內(nèi)的各種特種材料以及電子束光刻系統(tǒng)等先進技術(shù)解決方案。這些展覽不僅為參會者提供了了解最新技術(shù)和產(chǎn)品的機會，也為參展商提供了一個展示其創(chuàng)新成果的重要平臺。
此次SPIE先進光刻技術(shù)會議旨在促進學(xué)術(shù)界與工業(yè)界之間的合作與交流，推動半導(dǎo)體行業(yè)的技術(shù)創(chuàng)新與發(fā)展。對于希望深入了解并參與這一快速發(fā)展的領(lǐng)域的人來說，這無疑是一個不容錯過的機會。通過參加此次會議，參與者不僅能獲得寶貴的行業(yè)信息和技術(shù)知識，還能建立重要的專業(yè)聯(lián)系網(wǎng)絡(luò)。
中國組展機構(gòu)：盈拓展覽，深耕出境展覽20載，榮獲多項大獎，是行業(yè)知名品牌。以精準(zhǔn)市場定位和優(yōu)質(zhì)服務(wù)，助力中國外貿(mào)企業(yè)拓展海外市場。
下屆展會時間：2026年02月22號~02月26號
展會行業(yè)：科學(xué)
